本实用新型涉及超精密加工的技术领域，更具体地，涉及一种半导体基片用声光磁复合抛光装置，包括磁流变抛光组件、催化剂添加组件、光催化组件以及兆声波催化组件，磁流变抛光组件包括第一驱动电机、抛光轴以及抛光盘，抛光轴与第一驱动电机连接且抛光轴可伸入至抛光盘内侧，抛光盘内盛装有磁流变液、抛光盘下方设有在抛光盘内形成磁场的电磁组件、抛光盘的下部连接有驱动抛光盘旋转的驱动组件，催化剂添加组件与抛光盘连通，光催化组件设于抛光盘旁侧，兆声波催化组件与抛光盘连接。本实用新型向磁流变液内添加催化剂，配合光催化组件及兆声波催化组件，磁流变机械抛光与化学氧化腐蚀作用同时进行，具有较好的加工效率和加工质量。