一种基于相位掩膜干涉的Micro-LED巨量转移装置和方法
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申请号:

2020104857349
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摘要:

一种基于相位掩膜干涉的Micro‑LED巨量转移装置,包括光路模块、Micro‑LED转移模块和控制模块;所述光路模块包括激光发生器及沿激光路径依次设置的声光调制器、扩束镜、第一反射镜、相位掩膜版、第二反射镜和柱透镜;所述Micro‑LED转移模块包括转移组件和承接子模块;所述控制模块包括工控机,所述工控机与所述激光发生器电气连接。本发明提出一种基于相位掩膜干涉的Micro‑LED巨量转移装置和方法,以解决现有Micro‑LED巨量转移效率低、可控性差和工艺流程复杂等问题,在保证精准度和良率之外,在释放的同时实现扩大晶片间隔距离的要求,进一步满足了低成本、易操作、高效率、高灵活度并简化工艺等需求。

详细介绍

一种基于相位掩膜干涉的Micro‑LED巨量转移装置,包括光路模块、Micro‑LED转移模块和控制模块;所述光路模块包括激光发生器及沿激光路径依次设置的声光调制器、扩束镜、第一反射镜、相位掩膜版、第二反射镜和柱透镜;所述Micro‑LED转移模块包括转移组件和承接子模块;所述控制模块包括工控机,所述工控机与所述激光发生器电气连接。本发明提出一种基于相位掩膜干涉的Micro‑LED巨量转移装置和方法,以解决现有Micro‑LED巨量转移效率低、可控性差和工艺流程复杂等问题,在保证精准度和良率之外,在释放的同时实现扩大晶片间隔距离的要求,进一步满足了低成本、易操作、高效率、高灵活度并简化工艺等需求。


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一种高强度高过滤通量铜合金材料的制备方法

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用户评论

内容:
11
2022-01-05
专利不错
2022-01-05
专利很优质
2022-01-05
这个专利不错
2022-01-04
很好
2021-12-06
产品很不错 非常推荐
2021-12-03

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