本发明属于氮化硅陶瓷的技术领域，尤其涉及一种具有可表面改性的微纳结构的氮化硅陶瓷及其加工方法。本发明还提供了一种具有可表面改性的微纳结构的氮化硅陶瓷的加工方法，包括以下步骤：步骤1、对氮化硅陶瓷的加工区域进行激光加工，激光加工在所述氮化硅陶瓷的加工区域形成SiO2相，得到初加工陶瓷；步骤2、将所述初加工陶瓷依次进行抛光、清洗和烘干，得到具有可表面改性的微纳结构的氮化硅陶瓷，其中所述具有可表面改性的微纳结构的氮化硅陶瓷的加工区域形成SiO2相，填补了氮化硅陶瓷上直接加工可表面改性的微纳结构的空白。