本实用新型公开了一种制备渐变中性密度滤光片的真空磁控溅射镀膜装置，包括：真空腔体、待镀件支撑装置、圆形挡板机构、转动阴极机构、进水转动密封结构、出水转动密封结构和驱动装置；所述待镀件支撑装置位于所述真空腔体内，并且所述圆形挡板机构位于所述待镀件支撑装置下方；所述圆形挡板机构与所述转动阴极机构固定连接，并在所述驱动装置驱动下同步转动；所述进水转动密封结构和所述出水转动密封结构均设置在所述阴极转动机构底部；本实用新型可以制备大尺寸的圆形渐变中性密度滤光片，并且该圆形渐变密度滤光片透射率可以在0—270°扇形区域内沿极坐标角度方向线性变化。