等离子体处理装置及处理方法
等离子体处理装置及处理方法

申请号:

2008800078371
参考价格:面议

客服热线:

020-32502944

摘要:

本发明提供一种可以尽可能地减少电介质体的使用量的等离子体处理装置。本发明是如下的等离子体处理装置,即,具备收纳进行等离子体处理的基板(G)的金属制的处理容器(4)、向处理容器(4)内供给为了激发等离子体(P)而必需的电磁波的电磁波源(34),在处理容器(4)的盖体(3)下面具备1个或2个以上的电介质体(25),该电介质体(25)的一部分在处理容器(4)的内部露出,用于使由电磁波源(34)供给的电磁波透过到达处理容器4的内部,并且该等离子体处理装置与电介质体(25)相邻地设有表面波传播部(51),其沿着在处理容器(4)的内部露出的金属面传播电磁波。

详细介绍

本发明提供一种可以尽可能地减少电介质体的使用量的等离子体处理装置。本发明是如下的等离子体处理装置,即,具备收纳进行等离子体处理的基板(G)的金属制的处理容器(4)、向处理容器(4)内供给为了激发等离子体(P)而必需的电磁波的电磁波源(34),在处理容器(4)的盖体(3)下面具备1个或2个以上的电介质体(25),该电介质体(25)的一部分在处理容器(4)的内部露出,用于使由电磁波源(34)供给的电磁波透过到达处理容器4的内部,并且该等离子体处理装置与电介质体(25)相邻地设有表面波传播部(51),其沿着在处理容器(4)的内部露出的金属面传播电磁波。


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用户评论

内容:
11
2022-01-05
专利不错
2022-01-05
专利很优质
2022-01-05
这个专利不错
2022-01-04
很好
2021-12-06
产品很不错 非常推荐
2021-12-03

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