本发明公开了一种不同气氛下电弧等离子体辅助低压渗氮方法，属于材料表面加工技术领域。首先利用电弧增强辉光放电产生的Ar+对热作模具表面进行离子刻蚀，去除材料表面的氧化物。而后炉内连续通入高纯N2、高纯H2、以及高纯Ar，保持炉内温度（300‑500℃）和气压（0.2‑1.0Pa）恒定，工件转平台接脉冲电源负极，进行等离子渗氮。渗氮层中化合物层厚度为0‑2μm，硬度1000‑1300HV0.1，脆性等级小于1级，疏松级别小于1级。在渗氮过程中通有氢气和氩气，提高表面活性，降低气氛中的活性氮原子浓度，抑制化合物层的产生，降低硬度梯度。