一种半导体薄膜材料
一种半导体薄膜材料

申请号:

2017108417971
参考价格:面议

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020-32502944

摘要:

本申请属于光催化材料制备领域,具体涉及一种半导体薄膜材料。本发明所提供的半导体薄膜材料由磁控溅射法在衬底的表面交替沉积CuCrO2薄膜和CuO薄膜制得。本发明通过两种半导体薄膜材料的复合以及纳米尺寸效应,在提高光吸收的同时,有效地改善了本发明材料的光催化活性。因此,本发明半导体薄膜材料的制备简单,成本低廉,在太阳能开发与利用方面具有较好的前景。

详细介绍

本申请属于光催化材料制备领域,具体涉及一种半导体薄膜材料。本发明所提供的半导体薄膜材料由磁控溅射法在衬底的表面交替沉积CuCrO2薄膜和CuO薄膜制得。本发明通过两种半导体薄膜材料的复合以及纳米尺寸效应,在提高光吸收的同时,有效地改善了本发明材料的光催化活性。因此,本发明半导体薄膜材料的制备简单,成本低廉,在太阳能开发与利用方面具有较好的前景。


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一种高强度高过滤通量铜合金材料的制备方法

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用户评论

内容:
11
2022-01-05
专利不错
2022-01-05
专利很优质
2022-01-05
这个专利不错
2022-01-04
很好
2021-12-06
产品很不错 非常推荐
2021-12-03

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