一种MPCVD制备GaN纳米线的方法
一种MPCVD制备GaN纳米线的方法

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2017108445149
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摘要:

一种MPCVD制备GaN纳米线的方法属于无机化合物半导体材料制备与生长方法领域。高质量GaN纳米线的可控制备是当前的一个技术难点,本发明采用设计的石英坩埚和石英罩克服了这一难点,首次采用MPCVD制备了高质量的GaN纳米线,并且摒弃了对环境有污染的NH3和危险气体H2,在整个制备过程中N2作为唯一气体,为GaN的环保绿色制备得到了一个新的突破。

详细介绍

一种MPCVD制备GaN纳米线的方法属于无机化合物半导体材料制备与生长方法领域。高质量GaN纳米线的可控制备是当前的一个技术难点,本发明采用设计的石英坩埚和石英罩克服了这一难点,首次采用MPCVD制备了高质量的GaN纳米线,并且摒弃了对环境有污染的NH3和危险气体H2,在整个制备过程中N2作为唯一气体,为GaN的环保绿色制备得到了一个新的突破。


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一种高强度高过滤通量铜合金材料的制备方法

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用户评论

内容:
11
2022-01-05
专利不错
2022-01-05
专利很优质
2022-01-05
这个专利不错
2022-01-04
很好
2021-12-06
产品很不错 非常推荐
2021-12-03

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