一种室温下制备碘化亚铜P型透明半导体薄膜材料的方法
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申请号:

201810503029X
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摘要:

一种室温下制备碘化亚铜P型透明半导体薄膜材料的方法,本发明涉及碘化亚铜P型透明半导体薄膜材料的制备方法。本发明要解决现有物理方法普遍存在着反应温度高、设备操作复杂、反应时间长的缺点,且传统的铜膜一次碘化成膜制备的碘化亚铜薄膜,存在电学性能和光学性能低的问题的问题。方法:一、靶材和衬底的清洗;二、Cu薄膜的制备;三、制备单层CuI薄膜;四、循环制备CuI复合薄膜,即完成室温下制备碘化亚铜P型透明半导体薄膜材料的方法。

详细介绍

一种室温下制备碘化亚铜P型透明半导体薄膜材料的方法,本发明涉及碘化亚铜P型透明半导体薄膜材料的制备方法。本发明要解决现有物理方法普遍存在着反应温度高、设备操作复杂、反应时间长的缺点,且传统的铜膜一次碘化成膜制备的碘化亚铜薄膜,存在电学性能和光学性能低的问题的问题。方法:一、靶材和衬底的清洗;二、Cu薄膜的制备;三、制备单层CuI薄膜;四、循环制备CuI复合薄膜,即完成室温下制备碘化亚铜P型透明半导体薄膜材料的方法。


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一种高强度高过滤通量铜合金材料的制备方法

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用户评论

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11
2022-01-05
专利不错
2022-01-05
专利很优质
2022-01-05
这个专利不错
2022-01-04
很好
2021-12-06
产品很不错 非常推荐
2021-12-03

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