本申请公开了一种光栅膜层的制备方法，包括：预先获取镀膜机的镀膜均匀性轮廓图，镀膜均匀性轮廓图为在理论镀膜厚度下，镀膜机镀膜区域内各位置与各位置对应的实际镀膜厚度之间的关系图；根据镀膜均匀性轮廓图对光栅基底的第一表面进行加工，以使第一表面的轮廓形状与镀膜均匀性轮廓图的轮廓形状相反；将光栅基底放置在镀膜机的镀膜区域中，利用镀膜机在光栅基底的第一表面镀制膜层。本申请公开的上述技术方案，让光栅基底第一表面的轮廓形状与镀膜机镀膜均匀性轮廓图的轮廓形状相反，通过光栅基底对镀膜机的镀膜均匀性进行校正，以降低对镀膜机镀膜均匀性的要求，从而降低镀膜的成本。