用于制备图形化量子点薄膜的静电诱导成型装置
用于制备图形化量子点薄膜的静电诱导成型装置

申请号:

2017203192483
参考价格:面议

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020-32502944

摘要:

本实用新型公开了用于制备图形化量子点薄膜的静电诱导成型装置,包括阵列模板、上平板、不良溶剂层、量子点前驱体层、垫块和下平板;阵列模板的微柱阵列结构面朝下放置在上平板的无溶液面上;上平板涂覆有不良溶剂的表面和下平板涂覆有前驱体溶液的表面向内放置,两板间放置垫块,使上、下平板间留有空气间隙;上平板涂覆有不良溶剂的表面上形成不良溶剂层,下平板涂覆有前驱体溶液的表面形成量子点前驱体层。本实用新型能将量子点的制备过程和量子点彩膜阵列的成型过程结合在一起,一步到位;结构简单,操作方便,效率高,控制精度高,适用于红、绿、蓝量子点彩膜的成型,有效解决了现有技术存在的问题,降低了制造成本,适于大规模生产过程。

详细介绍

本实用新型公开了用于制备图形化量子点薄膜的静电诱导成型装置,包括阵列模板、上平板、不良溶剂层、量子点前驱体层、垫块和下平板;阵列模板的微柱阵列结构面朝下放置在上平板的无溶液面上;上平板涂覆有不良溶剂的表面和下平板涂覆有前驱体溶液的表面向内放置,两板间放置垫块,使上、下平板间留有空气间隙;上平板涂覆有不良溶剂的表面上形成不良溶剂层,下平板涂覆有前驱体溶液的表面形成量子点前驱体层。本实用新型能将量子点的制备过程和量子点彩膜阵列的成型过程结合在一起,一步到位;结构简单,操作方便,效率高,控制精度高,适用于红、绿、蓝量子点彩膜的成型,有效解决了现有技术存在的问题,降低了制造成本,适于大规模生产过程。


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一种高强度高过滤通量铜合金材料的制备方法

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用户评论

内容:
11
2022-01-05
专利不错
2022-01-05
专利很优质
2022-01-05
这个专利不错
2022-01-04
很好
2021-12-06
产品很不错 非常推荐
2021-12-03

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